■ 半導体製造装置用
ホットプレート
![](_src/1903/hotplate1809.jpg?v=1656642674195)
使用温度範囲:60〜400℃
性能:ウエハ上温度分布 温度Range 0.2℃ @ 180℃
プレート材質:AL、SUS、SiC等
ヒーター:マイカヒーター、ポリイミドヒーター等
半導体製造装置に搭載され、前工程の塗布・現像工程に使用されています。高温対応のSiCも製造可能です。
クーリングプレート
![](_src/1893/img20180828054608324307.jpg?v=1656642674195)
プレート材質:AL
パイプ材質:AL、SUS等
流体:空気、水
半導体製造装置に搭載され、断熱板、簡易冷却に使用されています。
■ ヒーターユニット
小型温水器
![](_src/1891/img20180828064301314551.jpg?v=1656642674195)
使用温度範囲:ご相談ください。
材質:SUS
ヒーター:シーズヒーター
コンパクトな設計で軽量化を実現。開発設計〜製造まで対応可能です。
包装機用加熱板
![](_src/1889/img20180828054608324708.jpg?v=1656642674195)
使用温度範囲:60〜250℃
プレート材質:AL、SUS等
ヒーター:マイカヒーター、カートリッジヒーター等
包装機に組み込まれ、フィルムの加熱、シール、成型等に使用されています。
■ ラバーヒーター
シリコンラバー単体
![](_src/1887/img20180828054608324323.jpg?v=1656642674195)
使用温度範囲:MAX 200℃
材質:シリコン
形状:被加熱物に合わせて設計が可能
柔軟性と均熱性に優れており、被加熱物に合わせた形状に製作することも可能です。
医療用(腹膜透析液加温装置)
![](_src/1895/equipment_photo4.jpg?v=1656642674195)
![](_src/1897/apply_photo5.jpg?v=1656642674195)
37℃一定に保温しています。